陈学租等人离开改造实验室之后回到会议室继续商讨光刻机的设计方案。
当然他们现在研发的还只是duv光刻机而已，evu光刻机在解决光源之前是没办法研究的了。
毕竟最核心的东西都还没有研发出来又怎么能实现下一步。
一群年过半百的老头子坐在办公室里捧着保温杯热议不停。
“老蔡，老张，我觉得咱们可以把光刻机校准系统设计成双校准系统。
在光刻机进行曝光的同时对另一枚晶圆进行校准。
这样可以大大缩短对晶圆的校准时间。”姜宏浩说道。
姜宏浩去年从魔都过来以后也是一直没有回去过。
在对光刻机设计框架时可是提出不少的宝贵方案。
当然姜宏浩参与到光刻机的研发也不是白参与了。
最终会根据他们在光刻机研发贡献比例获得一定股份。
这也是魔都微电子一直没有让他回去的原因。
这种联合研究他们又不吃亏。
“小姜的提议很不错，虽然会增加光刻机研发难度，但是却能大大提高光刻机效率。
如果走双校准平台方案的话，最少能够节省78秒的校准时间。”蒋尚义说道。
“但是这样会大大拖延光刻机的研发速度。”李三喜说道。
李三喜是长春光机所的副所长之一。
没错，是之一。
长春光机所一共有六位副所长。
“我们把空间先预留出来，先上单检验系统，等双检验系统解决了，我们在把另一个系统补上去。”陈学祖想了想说道。
“老陈，这东西一到安装好又岂是说装就装的，万一出现点什么情况的话，整个光刻机都需要重新检验。
这比我们重新组装一台光刻机都要复杂。”万典华说道。
满头白发的万典华也是光机所副所长之一。
“这种事情还是得实操以后才知道嘛，就算后面没办法再安装新的校准系统。
这样的设计也不会增加我们多少的成本。
但是这个方法一旦成功我们所制造光刻机就有改进的余地。
我觉得我们把光刻机当作积木来设计。
这样光刻机的更
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